不畏艰难的中国芯片之途

近段时间，在我国的半导体材料扶持计划下，“中国芯片”不断传出喜讯，引来关心国内半导体材料发展趋势的中国人一阵躁动不安。

最先是中国的集成ic代工生产大佬中芯，取得成功进行能够和tsmc代工生产的7nm芯片相提并论的FinFET N 1先进工艺的流片和检测；次之是一向不张扬的紫光展锐，变成继海思芯片后，第二家取得成功自研出6nm集成ic的公司。

但是有网民说眼会自研集成ic有什么作用，在我国最需要的仍是生产制造集成ic的工作能力和机器设备。特别注意的是，在芯片制造层面需要的光刻技术，也是有2个喜讯。

其一是芯片制造所必不可少的主要设备——光刻技术，中国科学院和上海微电子现阶段正全力以赴资金投入在产品研发中，成功得话，2021年就能完成批量生产。

其二是半导体设备的重要原材料——光刻技术得到新突破，中国的宁波市南大光电原材料有限责任公司日前已公布：将宣布建成投产在我国的第一条ArF高档光刻技术生产流水线。这条光刻技术生产流水线，恰好是用于生产制造国内7nm芯片的。我们在半导体材料发展趋势中所碰到的难题，已经一点一点地获得处理。

光刻技术获得新突破

光刻技术是半导体产业中的基本原材料，也是生产制造、生产制造集成电路芯片需要的关键原材料。因为其关键功效是迁移图象，因而光刻技术的品质、特性的好坏，对最后的制成品具备尤为重要的危害。假如品质稍有误差，便会给公司产生极大的损害。

比如上年的tsmc，就由于光刻技术的难题导致圆晶环境污染，最后损毁了达到十万片晶圆，给公司导致了5.五亿美金（约米37亿人民币米）的损害。

质量规定高，加上光刻技术具备非常高的技术要求，因而就算是和光刻技术一样关键，能担任该产业链的公司也屈指可数。

在我国先前在高档光刻技术层面彻底依靠進口，而现如今，宁波市南大光电已在该层面取得成功提升，并宣布完成建成投产！

据报道，一部分顾客现阶段早已接到南大光电的ArF光刻技术的试品，将来宁波市南大光电可能相继接到订单信息，依据预计，新项目完成彻底投产后，年销量将有可能做到10亿人民币！这对南大光电是一个绝佳的信息，对在我国的半导体业，又何尝不是一个开创性的喜讯呢！

现阶段中芯刚建成投产的N 1优秀集成ic加工工艺（7纳米技术）正必须高档光刻技术，而国内公司在高档光刻技术上的取得成功批量生产代表着国内7纳米技术集成ic又提升了一项重要原材料的封禁。为彻底国内生产制造的的7纳米技术集成ic贡献力量，不会再依靠海外的進口光刻技术！

光刻技术的商品使用量较小，对品质的规定却十分高，因而从事企业屈指可数。在宁波市南大光电以前，在我国也是有做光刻技术生产制造的公司，但做的主要是中低端光刻技术，例如只有运用在6英寸圆晶上的G线、I线这种光刻技术。

而高档的ArF光刻技术和EUV光刻技术关键被英国和日本的公司所掌权，并且因为商品的局限，无论是中国，還是全世界光刻技术的市场容量，都并不是非常大。

上年全世界光刻技术销售市场的经营规模才90亿美金（折合605.9亿人民币米），而在我国中国的市场销售经营规模只是70亿人民币米，占全世界市场占有率的10%，关键還是中低端光刻技术。

现阶段的光刻技术销售市场，关键被全世界五大生产商垄断性，分别是日本的JSR、博仕电子器件、日本东京应化和信越化学，及其英国的罗门哈斯。在其中日本共占了72%的光刻技术市场占有率，而英国的罗门哈斯占15%。

南大光电的ArF光刻技术生产流水线正式开始建成投产后，高档光刻技术的垄断性局势将被摆脱，悄悄的抄了英国日本光刻技术大佬的“退路”。

大家都知道，一切技术性顶尖成本增加的技术性，只需被在我国公司攻破，最后的运势便是“卖不出去”，这种美日光刻技术大佬再想靠完全垄断市场得到高盈利的时期就需要结束了。

在我国也可能取得成功从彻底取决于国外市场，到完成自力更生、自食其力。把握关键技术，不争朝夕，但一旦完成提升，在我国将不会再惧怕技术性封禁！